Essential Macleod光学薄膜设计软件的特点：
l 使用简便： 常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质量曲线；真正的多文档界面；
l 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单位；
l 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。
l 优化及合成：Optimac法；Simplex法；模拟退火法；
l 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源输入目标数据；链接；
l 分析和设计工具：导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin）计算；
l 性能计算：反射系数；透射系数；反射相位；透射相位；密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色散；一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、膜厚关系函数；
l 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用户可定义的观测；
l 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器；
Essential Macleod光学薄膜设计软件增强模块
核心麦克劳德增强模块增加用户自定义计算、计划镀膜生产， 以及同沉积控制器的通信连接。下面是通常可用到的增强模块。
Function：
由于数据表并非为相同波长点的数据，连接数据表时需插值操作， 因此处理薄膜计算，光源光谱数据，玻璃的光学参数以及一些其他信息通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。Function是一个处理这种计算的强大工具，可方便进行数据插值，自动计算。Function可计算一个光学系统的特性，可以计算黑体响应，输入功率，输出功率，热辐射，吸收功率，太阳吸收等。
Runsheet
这个工具可生成镀膜过程中包含机器配置的运行工作单。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置，材料源以及工具因子以及监控系统。使用者可使用运行工作单生成器对机器进行配置，及镀膜设计的监控。该工具可设定光学与晶体监控，也设置诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。
Simulator
公差估计是镀膜生产中的一个实际问题，很难有好的分析方法。Simulator 通过蒙特卡罗（ Monte Carlo ）法在实际模型控制过程的扩展来进行分析生产中公差问题。
通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积过程，考虑系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，堆砌密度误差等等引入随机误差，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应， 从而分析各种误差对镀膜特性的影响。
Monitorlink：
Monitorlink 是一个将运行工作单连结到一个淀积控制器的额外软件， 将Esential Macleod 的设计结果传输到镀膜控制器，由控制器执行镀膜工艺。光学膜厚控制仪的Monitorlink和Runsheet为必选项，石英晶体膜厚控制仪为备选项。
Vstack：
VStack 是一种计算与优化增强模块，用于计算光学系统的非平行光入射的光学组件的反射和投射特性。计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理，原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的△值。
DWDM Assistant:
DWDA Assistant 可根据客户的要求采用对称周期法自主设计一组多腔滤波片，设计结果可以根据一些诸如总厚度﹑预计淀积时间等等规范排序。