TSV1200-S型多功能磁控溅射镀膜机
应用范围：手机外壳，
MP3外壳，数码相机外壳，各种标牌的装饰改性加硬镀膜. 可镀膜层: 氮化钛（TiN）、氮碳化钛（TiCN）、氮化锆（ZrN）、氮化铬（CrN）、氮化铝钛（TiAlN），碳化钛（TiC）等。颜色: 金色， 银色， 黑色 兰色等等。
主要特点:
1、 侧面双开门结构, 便于装片和换靶
2、独特设计预溅射挡板,工艺控制简便,节省时间
3、 独特设计的充气和抽气系统, 有效镀膜区宽
4、专业脉冲偏压非平衡对靶中频磁控溅射技术,镀膜质量稳定
5、采用PLC工控机控制, 可实现设备和工艺手动和自动控制, 多重泵阀水电互锁互保护
6、 安装采用全程四极质谱监控和氦质谱检漏, 真空密封性好, 设备工艺稳定可靠
7、 转动采用磁流体引入,长期运转密封可靠
8、综合效率高,装片量大. 50X70mm工件, 最大一次可装800片
9、 所有零部件采用国内知名厂家, 电器元件采用进口或合资企业产品, 设备长期运行可靠稳定.
主要技术参数和配置：
（一）、真空系统技术指标
1、极限真空：优于2×10-3Pa；
2、抽速：大气到5×10-3Pa≤30mm (空载, 冷态,洁净)；
3、压升率：小于0.5Pa/hr。
（二）、真空室和真空系统配置
1、镀膜室尺寸：1210mm（直径）×1200mm（高）；
2、采用侧面对开双门方式,便于工件装卸；
3、外壁通冷却水，冷却水管采用半圆管焊接方式，焊缝美观、平整；
4、3个观察窗口，左右门上各一个，室体正前方一个；
5、抽气室内安装一个旋转抽气挡板，旋转角度范围0～90°
6、两台φ400mm口径分子泵；
7、1台ZJP300型罗茨泵，增加气动旁通阀；
8、2台2X-70型机械泵，一台为粗抽泵，一台为分子泵维持泵；
9、φ400mm口径高真空气动阀2套；
（三）、工件挂架以及驱动装置
1、一套公、自转工转机构，采用下驱动方式的二维平面行星机构,自转轴20根；
2、转速0-8圈/分钟可控可调；
3、驱动引入采用磁流体密封；
（四）、真空测量系统
1、采用一台数字式复合真空计；
2、一路高真空测量，两路低真空测量（室体一路，低真空管道一路）。
（五）、磁控溅射阴极靶
1、四对磁控溅射靶（四只外装靶，四只内装靶，共八只靶）
2、磁控溅射靶靶材尺寸：912 mm×120 mm（长×宽）；
（六）、加热系统
1、6只加热器，沿室壁圆周分布，每只功率3KW，加热总功率18KW；
2、金属铠装热电偶一只，安装于室体顶部；
3、最高烘烤温度300℃，能实现温度自动控制；
4、加热器引入采用金属密封。
（七）、水冷却系统
1. 真空室冷却
2. 八个靶体冷却
3. 分子泵,罗茨泵冷却
4. 冷却水测温,并报警
（八）、供气系统
1. 4路进气(Ar, N2, O2, C2H2)，1个混气罐；
2. 4只AE质量流量计，4只电磁截止阀，4只手动针阀；
3. 气路管道采用外径1/4″不锈钢管,配均匀布气管。
（九）、预溅射挡板
1、挡板边缘折边，增加强度，避免烘烤热变形；
2、驱动引入密封采用磁流体密封。
（十）、溅射及偏压供电系统：
1． 3套30K溅射电源：
2． 一套PLS-30K型脉冲偏压电源
（十一）、控制单元
1. 控制系统:采用上位机（工控机）+下位机（PLC）的控制形式，工控机向PLC发送命令，PLC去控制真空系统，加热系统，转动系统.
2. 真空控制有手动和自动，自动包括四个过程：真空、连续、取件、停机。
3. 靶控制也有手动和自动，自动主要以时间和功率来控制能保存和调用工艺参数。
4. 报警系统有泵、靶断水报警，系统气压低报警等,全系统具有防爆, 互保护, 泵阀互锁
（十二）设备动力要求
水源: 工业软水，水压0.2～0.3Mpa，水量～50L/min，进水温度≤25℃；
气源：气压0.6MPa；
电源：三相五线制380V，50Hz，波动范围±5%：功率≥60KW, 最大150KW
（十三）占地面积:3200长X4200宽X2100高