射频等离子体类金刚石膜沉积设备
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产品名称:
射频等离子体类金刚石膜沉积设备
产品型号:
TSV-700DLC
产品展商:
利方达有限公司
简单介绍
TSV-700DLC射频等离子体类金刚石膜沉积设备（俗称碳膜机）。昆明211所、电子部11所、天津8385所、014中心都在用该款设备。
射频等离子体类金刚石膜沉积设备的详细介绍
TSV-700DLC型全自动类金刚石膜沉积设备技术参数及基本配置
- 真空室：圆型，卧式顶盖升降，表面亚光处理
- 真空室尺寸：Φ700×500
- 极限真空：系统经过24h烘烤后连续抽气，可达到3×10-4Pa ，恢复真空时间：短时间暴露大气并充干燥氮气开始分别抽气，20min可到6.0×10-3Pa（室温），保压：停机12h后保持真空度不大于10Pa。
- Φ450铜水冷阴极靶和Φ450铜水冷阳极靶，靶间距（100mm~300mm）可调。
- 美国comdel自动匹配射频电源，同时有手动调节控制系统
- 气路系统：配四路四显质量流量计，用于手动及自动控制气体流量（0~300SCCM；0~50SCCM，气体通过匀气筛进入真 空室，另配一路吹气枪，以清洁沉积靶面
- 工件烘烤：0 ~300℃
- 配有软抽软放系统
- 系统控制：有自动、手动两套控制系统，专用控制软件，计算机窗口设定控制工艺过程及存档、打印功能，有完备的水、电等异常报警功能。